报告题目：超精密加工——磁场辅助抛光

报告人：冯铭   温州大学机电工程学院 博士

报告时间：2021年 09月29 日（周三）下午13:30

报告地点：学术报告厅6B309

报告摘要：

航空、5G通讯、半导体以及光学等高端制造领域内的产品，往往需要非常高的加工精度和表面质量，以保证产品性能，提高服役时间。针对这类产品，如：涡轮发动机叶片（复杂面型），半导体基底（超薄片，原子级表面粗糙度，近无损伤表面），光学反射镜（高形状精度，表面质量）等都需要进行超精密加工来达到目标精度。因此，超精密加工技术是决定产品质量的关键所在。

超精密加工技术从利用单一的物理场或化学场进行减材，逐渐向多场辅助或多场协同减材发展。此次报告将介绍超精密加工技术的发展历史，并将磁场辅助抛光作为研究成果展示，以此深入理解超精密加工技术的理论与实践意义，感受超精密加工技术的科学性。

报告人简介：

冯铭，男，1988年生，于2020年4月在日本秋田県立大学获工学博士学位，同年9月进入温州大学机电工程学院担任讲师，期间在南方科技大学机械与能源工程系进行学术访问。主要从事硅、碳化硅等半导体材料、蓝宝石、氧化锆陶瓷、增材制造钛合金人工假体等高效超精密抛光技术与装备开发，光学系统透镜与反射镜超精密加工技术与装备开发。参与国家自然科学基金1项，参与深圳市国际合作课题1项（日方负责人），已在国内外杂志上发表相关科技论文20余篇，其中以第一作者发表SCI/EI 期刊论文8篇，授权发明专利3项。